Hyper MF/MF-U系列核心技術解析

1. 超精密測量系統

采用(0.9+3L/1000)µm級XY軸測量精度，配合0.01µm最小顯示分辨率，實現微米級尺寸測量。Z軸電動驅動速度達20mm/s，配備防碰撞下限設定功能，確保測量安全性。

2. 革命性光學系統

• 正像觀察系統支持10x-100x物鏡變倍，搭配平場復消色差鏡頭消除色差

• 明/暗場雙模式照明系統，可選配微分干涉與偏光觀察

• 激光自動對焦(LAF)技術實現1秒快速對焦

3. 智能化操作設計

三軸電動控制臺集成前置操縱桿，支持RS-232C/USB雙數據輸出。Vision Unit選件實現影像自動對焦，工作臺快速釋放裝置縮短60%調試時間。

4. 工業級應用適配

250×150mm至400×200mm多規格載物臺，最大支持220mm工件高度。通過JIS B 7153認證，特別適用于：

半導體晶圓缺陷檢測

精密模具三維輪廓分析

微型軸承尺寸驗證

5. 系列型號對比

型號

核心差異

典型應用場景

Hyper MF

基礎型，單目/雙目配置

常規精密零件檢測

MF-UA/UJ

2軸手動/Z軸電動

大批量產線快速測量

MF-UK/UD

明暗場+3軸電動

復雜光學元件分析

技術演進

2025年新型MF-UB2515B型號將測量精度提升至(0.9+0.003L)µm，配備250×150mm大理石工作臺，成為IC封裝檢測的新